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更小面積,更強(qiáng)性能 -- 三星推出8nm射頻工藝技術(shù)

2021-06-09 10:00 16698
今日,三星宣布開發(fā)新一代“8納米射頻(RF)工藝技術(shù)”,強(qiáng)化5G通信芯片的解決方案。

韓國(guó)首爾2021年6月9日 /美通社/ -- 今日,三星宣布開發(fā)新一代“8納米射頻(RF)工藝技術(shù)”,強(qiáng)化5G通信芯片的解決方案。

三星半導(dǎo)體韓國(guó)H3晶圓代工廠全景
三星半導(dǎo)體韓國(guó)H3晶圓代工廠全景

這種先進(jìn)的制造技術(shù)支持5G通信的多通道和多天線芯片設(shè)計(jì),期待為5G通信提供單芯片的解決方案(One Chip Solution)。三星的8nm RF平臺(tái)擴(kuò)展計(jì)劃,有望增強(qiáng)從Sub-6GHz到毫米波(mmWave)應(yīng)用的5G半導(dǎo)體代工市場(chǎng)地位。

三星8nm RF是從已有28nm,14nm RF代工解決方案拓展的新一代工藝技術(shù)。自2017年至今,三星以高端智能手機(jī)為主,已生產(chǎn)了超過(guò)5億顆的RF 芯片,在RF芯片代工市場(chǎng)擁有了一席之地。

“通過(guò)技術(shù)創(chuàng)新和制造工藝的精益求精,我們推出了下一代無(wú)線通信的代工技術(shù)方案,”三星電子代工技術(shù)開發(fā)團(tuán)隊(duì)負(fù)責(zé)人Hyung Jin Lee表示“隨著5G毫米波的應(yīng)用擴(kuò)大,三星的8nm RF技術(shù)為客戶提供更好的解決方案,滿足客戶不斷提升的用戶體驗(yàn),在小的芯片上提供更長(zhǎng)的電池使用時(shí)間,高質(zhì)量的通信信號(hào)?!?/p>

三星新一代RFeFET? 器件結(jié)構(gòu)

RF芯片把接受的射頻信號(hào)轉(zhuǎn)換數(shù)字信號(hào)用于數(shù)字處理,把處理后的數(shù)字信號(hào)轉(zhuǎn)換為射頻信號(hào)用于發(fā)射。RF工藝技術(shù)中,模擬/RF器件性能和數(shù)字器件性能都非常重要。

隨著半導(dǎo)體工藝節(jié)點(diǎn)的縮微,數(shù)字電路在性能,功耗和面積上都有顯著改善,然而模擬/RF 模塊由于寄生特性難以縮微。由于線寬較窄,導(dǎo)致電阻增加,RF信號(hào)放大性能減弱,功耗增加,RF芯片整體性能下降。

為了克服模擬/RF電路在工藝縮微時(shí)的技術(shù)挑戰(zhàn),三星開發(fā)了一種名為“RFeFET?(RF extremeFET)”的獨(dú)特RF器件結(jié)構(gòu),新的結(jié)構(gòu)只在8nm RF平臺(tái)上提供,新的RF器件使用小的功率就能提升RF性能。與此前的14nm工藝相比,三星“RFeFET?(RF extremeFET)”可以幫忙數(shù)字電路的縮微,同時(shí)提升模擬/RF性能,提供高性能的5G技術(shù)平臺(tái)。

工藝優(yōu)化包括增加電子遷移率,降低寄生參數(shù)。由于RFeFET?的性能的提升,射頻芯片中晶體管的總數(shù)可以減少,模擬電路的面積可以減少。

由于三星“RFeFET?(RF extremeFET)”的創(chuàng)新,與此前的14nm工藝相比,三星的8nm RF工藝可減少約35%的射頻芯片面積,且能效也有約35%的提升。

*本廣告中的產(chǎn)品圖片以及型號(hào)、數(shù)據(jù)、功能、性能、規(guī)格參數(shù)、特點(diǎn)和其他產(chǎn)品信息(包括但不限于產(chǎn)品的優(yōu)勢(shì)、組件、性能、可用性和能力)等僅供參考,三星有可能對(duì)上述內(nèi)容進(jìn)行改進(jìn),且均無(wú)需通知或不受約束即可變更,具體信息請(qǐng)參照產(chǎn)品實(shí)物、產(chǎn)品說(shuō)明書。除非經(jīng)特殊說(shuō)明,本廣告中所涉及的數(shù)據(jù)均為三星內(nèi)部測(cè)試結(jié)果,本廣告中涉及的對(duì)比均為與三星產(chǎn)品相比較。

 

 
消息來(lái)源:Samsung Electronics Co., Ltd.
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