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日本東京2021年7月15日 /美通社/ -- 面向半導體、醫(yī)療保健和制藥行業(yè)的分子傳感和診斷產(chǎn)品領先制造商Atonarp今天宣布推出Aston，這是一個創(chuàng)新的原位半導體計量平臺，集成了等離子體離子源。
Ascon是半導體生產(chǎn)過程計量領域的一項重大進展，可實現(xiàn)原位分子過程控制，并有助于現(xiàn)有晶圓廠更高效地運行，從而推動產(chǎn)量的提高。Ascon是一個用于半導體生產(chǎn)的強大平臺，從頭開始構建，可替代多種傳統(tǒng)工具，并在一整套應用中提供前所未有的控制水平，包括光刻、電介質(zhì)及導體蝕刻和沉積、腔室清潔、腔室匹配和氣體減排。
“通過Aston，我們看到某些應用中單位流程吞吐量增長超過40%，這是一項重大改進。即使晶圓廠總產(chǎn)量增長1%，也可以為一家典型的晶圓廠每年增加價值數(shù)千萬美元的產(chǎn)量，”Atonarp創(chuàng)始人兼首席技術官Prakash Murthy表示，
“如果將Aston裝配到現(xiàn)有生產(chǎn)工藝機具上，僅在六到八周內(nèi)即可帶來更高的產(chǎn)量，相比之下，若安裝新的生產(chǎn)設備則需要長達一年的時間，”Murthy補充道， “這將極大地幫助制造商提高生產(chǎn)水平，并幫助解決當前半導體產(chǎn)能短缺的問題?！?/p>
快速可操作端點檢測（EPD）是運行半導體機具和晶圓廠最有效的方式。到目前為止，EPD尚未能部署在許多工藝步驟中，因為所需的原位傳感器無法承受惡劣的工藝或腔室清潔化學品，否則將遭受冷凝沉積物的堵塞。從歷史上看，晶圓廠被迫在固定時間進行清潔來確保流程按時完成。相反，Aston通過在流程完成時進行準確檢測（包括腔室清潔）來優(yōu)化生產(chǎn)，從而將所需的清潔時間縮短高達80%。
Aston耐受腐蝕性氣體和氣化污染物冷凝液。它比現(xiàn)有解決方案更穩(wěn)健，采用獨立雙離子源（包括一個常規(guī)電子轟擊離子源和一個無燈絲等離子體發(fā)生器），能夠在半導體生產(chǎn)遇到的惡劣條件下可靠運行。這使得Aston能夠以原位狀態(tài)在苛刻環(huán)境中使用。在那種環(huán)境下，傳統(tǒng)電子式離子發(fā)生器會發(fā)生腐蝕，而且會迅速出現(xiàn)故障。
與傳統(tǒng)質(zhì)量分析儀相比，使用Aston的維修間隔長達100倍。它包括自清潔功能，可消除由于某些工藝中存在的冷凝物沉積而導致的污垢積累。
由于Aston會生成自己的等離子體，因此在它工作時，過程等離子體可有可無。這比發(fā)射光譜計量技術有明顯的優(yōu)勢，因為后者需要一個等離子體源來工作，這使Aston成為原子層沉積（ALD）和某些可能使用弱等離子體、脈沖等離子體或不使用等離子體進行處理的金屬沉積工藝的理想選擇。
Ascon還通過提供量化、可操作的實時數(shù)據(jù)來改進工藝一致性，通過人工智能（AI）促進強大的機器學習功能，以符合要求最苛刻的工藝應用。此外，由于實時數(shù)據(jù)統(tǒng)計分析和工藝腔室管理的高精度、高靈敏度和可重復性，這進一步改進了生產(chǎn)線并提高了產(chǎn)品產(chǎn)量。
Ascon主要用于化學氣相沉積（CVD）和蝕刻應用，這兩種應用的年增長率均超過13%。此款光譜儀可以在新工藝腔室的組裝過程中進行安裝，也可將其加裝到已運行的現(xiàn)有腔室。
Ascon還可與ATI Korea開發(fā)的智能壓力控制器Psi配套使用。經(jīng)過歷時數(shù)月的綜合可行性評估，這一組合解決方案最近被三星選購，用于先進的工藝控制應用。
Aston現(xiàn)可接受評估和訂購，可進行直接購買或通過Atonarp的全球合作伙伴網(wǎng)絡購買。
