北京2021年9月23日 /美通社/ -- 德州儀器(TI)(納斯達(dá)克代碼TXN)今宣布其氮化鎵(GaN)技術(shù)和 C2000? 實(shí)時(shí)微控制器(MCU),輔以臺達(dá)(Delta Electronics)長期耕耘之電力電子核心技術(shù),為數(shù)據(jù)中心開發(fā)設(shè)計(jì)高效、高功率的企業(yè)用服務(wù)器電源供應(yīng)器(PSU)。與使用傳統(tǒng)架構(gòu)的企業(yè)服務(wù)器電源供應(yīng)器相比,臺達(dá)研發(fā)的服務(wù)器電源供應(yīng)器將功率密度提高了80%,效率提升1%。能源政策機(jī)構(gòu)Energy Innovation[1]數(shù)據(jù)顯示,效率每提升1%,相當(dāng)于每個(gè)數(shù)據(jù)中心節(jié)省了1兆瓦(或800戶家庭用電)的總所有成本。
臺達(dá)為全球客戶提供電源管理與散熱解決方案,同時(shí)也是AC-DC、DC-DC與DC-AC電源系統(tǒng)的領(lǐng)導(dǎo)廠商,產(chǎn)品應(yīng)用范圍廣泛,包括IT設(shè)備、電動(dòng)車充電與工業(yè)電源等。TI在GaN技術(shù)以及C2000? MCU實(shí)時(shí)控制解決方案上長達(dá)十年的投資有目共睹,是臺達(dá)長期合作的重要伙伴。此次TI采用創(chuàng)新的半導(dǎo)體制造工藝來制造硅基氮化鎵和集成電路,助力臺達(dá)等企業(yè)打造差異化應(yīng)用,更高效地為世界各地的數(shù)據(jù)中心供電。
“在TI,我們致力于通過半導(dǎo)體技術(shù)讓電子產(chǎn)品更經(jīng)濟(jì)實(shí)用,讓世界更美好,并且我們的GaN技術(shù)為更高效、更小、更可靠的全新解決方案的誕生帶來更多可能,”TI高壓電源解決方案副總裁Steve Lambouses表示,“除了技術(shù)投資外,TI在內(nèi)部制造方面的投資能夠快速普及GaN等新技術(shù),并為臺達(dá)等客戶提供支持?!?nbsp;
“臺達(dá)長期致力于通過高效能產(chǎn)品和解決方案,與伙伴及客戶密切合作,以降低碳足跡。這也促使我們與TI這樣的行業(yè)領(lǐng)軍企業(yè)開展長期合作,持續(xù)進(jìn)行新一代技術(shù)的開發(fā)、應(yīng)用。GaN技術(shù)已突破門坎,從人們口中的未來科技落地,成為當(dāng)今電源系統(tǒng)設(shè)計(jì)中切實(shí)可行的一個(gè)選擇?!迸_達(dá)電源與系統(tǒng)事業(yè)群副總裁暨總經(jīng)理Jimmy Yiin說,“通過引入新技術(shù),我們希望為服務(wù)器的電源供應(yīng)器實(shí)現(xiàn)超過98%的效率,功率密度超過100瓦/立方英寸。GaN技術(shù)將變革現(xiàn)有的電源設(shè)計(jì)和架構(gòu),未來幾年電源方案和產(chǎn)品的發(fā)展令人期待,臺達(dá)也將善用新技術(shù),進(jìn)一步強(qiáng)化我們作為數(shù)據(jù)中心和其他電源解決方案的領(lǐng)先供應(yīng)商地位?!?
集成的GaN 芯片提供更高的效率、功率密度和系統(tǒng)可靠性
制造和長期投資戰(zhàn)略確保靈活供應(yīng)
TI和臺達(dá)將于2021年9月27日至29日的TI Live! Tech Exchange共同舉辦主題為《GaN技術(shù)的影響及其對未來工業(yè)設(shè)計(jì)的意義》的在線技術(shù)交流研討會(huì)。屆時(shí),TI專家將通過一系列主題演講、論壇、技術(shù)會(huì)議和產(chǎn)品演示,討論電源管理、汽車、實(shí)時(shí)控制、視覺傳感和設(shè)計(jì)趨勢等內(nèi)容。欲了解更多信息,請?jiān)L問ti.com/techexchange。
如需了解更多信息,敬請?jiān)L問TI.com/gan。
[1] Energy Innovation,“數(shù)據(jù)中心實(shí)際使用了多少能源?”,2020年3月17日。
關(guān)于德州儀器(TI)
德州儀器(TI)(納斯達(dá)克股票代碼:TXN)是一家全球化的半導(dǎo)體公司,致力于設(shè)計(jì)、制造、測試和銷售模擬和嵌入式處理芯片,用于工業(yè)、汽車、個(gè)人電子產(chǎn)品、通信設(shè)備和企業(yè)系統(tǒng)等市場。我們致力于通過半導(dǎo)體技術(shù)讓電子產(chǎn)品更經(jīng)濟(jì)實(shí)用,創(chuàng)造一個(gè)更美好的世界。如今,每一代創(chuàng)新都建立在上一代創(chuàng)新的基礎(chǔ)之上,使我們的技術(shù)變得更小巧、更快速、更可靠、更實(shí)惠,從而實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體在電子產(chǎn)品領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用,這就是工程的進(jìn)步。這正是我們數(shù)十年來乃至現(xiàn)在一直在做的事。欲了解更多信息,請?jiān)L問公司網(wǎng)站http://www.ti.com.cn/。
商標(biāo)
C2000是德州儀器的商標(biāo)。所有其它商標(biāo)和注冊商標(biāo)均歸其各自所有者專屬。